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hic抗氫致開(kāi)裂檢測(cè)機(jī)構(gòu)靠譜嗎

發(fā)布時(shí)間:2021-08-06 訪問(wèn)量:711次 來(lái)源:隱石檢測(cè)
hic抗氫致開(kāi)裂檢測(cè)機(jī)構(gòu)靠譜嗎,很多人不清楚它具體是有什么作用,今天就為大家詳細(xì)講解下應(yīng)力腐蝕檢測(cè)相關(guān)內(nèi)容。

hic抗氫致開(kāi)裂檢測(cè)機(jī)構(gòu)靠譜嗎

應(yīng)力腐蝕斷口的微觀特征:表面為泥紋和腐蝕坑。斷口有沿晶斷口、穿晶解理斷口、準(zhǔn)解理斷口或混合斷口。


防止應(yīng)力腐蝕的措施合理選擇金屬材料,根據(jù)零件的應(yīng)力和接觸的化學(xué)介質(zhì)選擇耐應(yīng)力腐蝕的金屬材料。2. 也應(yīng)盡量選用高KISCC的合金。2. 減少或消除零件的殘余拉應(yīng)力。必要時(shí)應(yīng)采用退火工藝消除應(yīng)力或采用噴丸等表面處理方法。3.改進(jìn)化學(xué)介質(zhì)。一方面,盡量減少和消除促進(jìn)應(yīng)力腐蝕開(kāi)裂的有害化學(xué)離子;另一方面,可以在化學(xué)介質(zhì)中加入緩蝕劑。4. 采用電化學(xué)保護(hù)和陰極保護(hù),使化學(xué)介質(zhì)中的金屬電位遠(yuǎn)離應(yīng)力腐蝕敏感電位區(qū)。


由于化學(xué)介質(zhì)中的金屬只有在一定的電極電位范圍內(nèi)才會(huì)產(chǎn)生應(yīng)力腐蝕,外電位法也是使化學(xué)介質(zhì)中的金屬電位遠(yuǎn)離應(yīng)力腐蝕敏感區(qū)的一種預(yù)防措施。一般采用陰極保護(hù)。但該方法不適用于高強(qiáng)度鋼等氫脆敏感材料。


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由于金屬在中只產(chǎn)生應(yīng)力腐蝕在一定的電極電位范圍內(nèi),采用外部潛在的方法使金屬的潛力在中遠(yuǎn)離潛在應(yīng)力腐蝕敏感區(qū)域,這也是一項(xiàng)措施,防止應(yīng)力腐蝕。一般采用陰極保護(hù)方法。然而,這種保護(hù)方法不能用于高強(qiáng)度鋼和其他對(duì)氫脆敏感的材料。有時(shí)犧牲陽(yáng)極法也是一種非常有效的電化學(xué)保護(hù)方法。


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